|
 |
| |
|
|
| |
 |
TFT
Thin Film TransistorÀÇ ¾à¾î·Î Àü°èÈ¿°úÆ®·£Áö½ºÅÍFET:Field Effect Transistor)ÀÎ MOS(Metal Oxide Semiconducter)FETÀÇ ÀÏÁ¾À¸·Î À¯¸®±âÆÇ À§¿¡ ¾Æ¸ð¸£ÆÛ½º½Ç¸®ÄÜ(a-Si) µîÀÇ ¹ÝµµÃ¼¹Ú¸·À» Çü¼º½ÃÄÑ ¿©±â¿¡ FET±¸Á¶¸¦ ¸¸µç °ÍÀ» ¸»ÇÑ´Ù. ¹Ú¸·(thin film)Çü¼º±â¼úÀº ¼ö¹é¿Ë½ºÆ®·Ò ³»Áö ¼öõ¿Ë½ºÆ®·ÒÀÇ ¾ãÀº ¸·À» Àý¿¬±âÆÇ»ó¿¡ Áø°øÁõÂø¿¡ ÀÇÇØ Çü¼ºÇÏ´Â ±â¼ú·Î¼ óÀ½¿£ ¹Ú¸·Àç·á·Î¼ CdS µîÀÌ »ç¿ëµÆÀ¸³ª Áö±ÝÀº ¾Æ¸ð¸£ÆÛ½º ½Ç¸®Äܸ·ÀÌ ÁÖ·ù¸¦ ÀÌ·ç°í ÀÖ´Ù. ¾Æ¸ð¸£ ÆÛ½º ½Ç¸®ÄÜTFTÀÇ µå·¹Àΰú ¼Ò½ºÃþÀº °í³óµµÀÇ ¾Æ¸ð¸£ÆÛ½º ½Ç¸®ÄÜÀ¸·Î Çü¼º, Àý¿¬ÃþÀº CVD(Chemical Vapor Deposition)±â¹ý¿¡ ÀÇÇØ Çü¼ºµÈ´Ù. FET(Àü°èÈ¿°ú Æ®·£Áö½ºÅÍ)´Â ¹ÝµµÃ¼Ç¥¸é¿¡ Àý¿¬Ã¼¸¦ ÀÌ¿ëÇØ Àü°è¸¦ Àΰ¡, ¹ÝµµÃ¼Ç¥¸é¿¡ Çü¼ºµÇ´Â Àü·ùÅë·Î(ä³Î)ÀÇ µµÀüµµ¸¦ Á¦¾îÇÏ´Â Àý¿¬°ÔÀÌÆ®Çü°ú ¿ª¹ÙÀ̾µÈ °ÔÀÌÆ® Á¢Çպο¡ »ý±â´Â °øÁöÃþÀÇ ÆøÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼³»ºÎÀÇ Ã¤³ÎµµÀüµµ¸¦ Á¦¾îÇÏ´Â Á¢ÇÕÇüÀ¸·Î ´ëº°µÇ´Âµ¥ FET´Â ÀüÀÚ ¶Ç´Â Á¤°øÀÇ ÇÑÂʸ¸ÀÌ Àüµµ¿¡ ±â¿©Çϱ⠶§¹®¿¡ À¯´Ï Æú¶ó¼ÒÀÚ¶ó°íµµ ºÒ¸®¸ç, ÀüÀÚ¿ÍÁ¤°øÀÇ ¾çÂÊÀÌ ´Ù Àüµµ¿¡ ±â¿©ÇÏ´Â °ÍÀ» ¹ÙÀÌÆú·¯¼ÒÀÚ¶ó°í ÇÑ´Ù. MOSFET´Â ¹ÝµµÃ¼¸Þ¸ð¸®, ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÁ·Î¼¼¼ µîÀÇ LSI, VLSI±¸ ¼º¼ÒÀڷμ¸¸ÀÌ ¾Æ´Ï¶ó CCD(charge coupled device), ÆÄ¿ö¹ÝµµÃ¼¼ÒÀÚ, ¸¶ÀÌÅ©·ÎÆÄ ¼ÒÀڷμ Æø³Ð°Ô »ç¿ëµÇ´Â ¹ÝµµÃ¼¼ÒÀÚÀ̸ç TFT´Â ¾×Á¤µð½ºÇ÷¹ÀÌÀÇ ±¸µ¿ ¿ë¼ÒÀڷμ ºÒ°¡°áÀÇ °ÍÀÌ µÅ ÀÖ´Ù. |
|
|
| |
|
|
|
|
| |
|
|